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污染物分析

中禹聯(lián)重檢測技術(shù)中心隸屬于上海禹重實(shí)業(yè)有限公司,作為面向21世紀專(zhuān)業(yè)的材料分析服務(wù)機構,為各行業(yè)及終端用戶(hù)提供高價(jià)值專(zhuān)業(yè)分析和測試咨詢(xún)服務(wù),以及第三方的產(chǎn)品驗證。在冶金、建筑、礦山、地質(zhì)、環(huán)境、機械、化工、電子電氣、石油、生物、制藥、醫療、紡織、食品和農業(yè)等眾多領(lǐng)域,我們與瑞士通標(SGS)、美國EAG、上海材料研究所測試中心和鋼研檢測中心等權威檢測單位開(kāi)展廣泛而持久的合作關(guān)系。

UZonglab是您在新產(chǎn)品新材料開(kāi)發(fā)、制程監控、品質(zhì)控制、失效分析中不可缺少的合作伙伴。禹重科技的材料分析專(zhuān)家具有廣泛的專(zhuān)業(yè)知識,讓客戶(hù)能夠充分理解現有分析技術(shù)的范圍,以及性能極限。您完全可以相信我們的技術(shù)并幫助您改善產(chǎn)品的性能、提升成品良率、縮短研發(fā)時(shí)間、降低生產(chǎn)成本、解決問(wèn)題達到預期的效果。

污染物
出現出乎意外和無(wú)法追溯的污染物,會(huì )對制程造成重大的影響,因此關(guān)鍵是要對其了解與控制?;谶@個(gè)理由,大部分的材料特性分析工作都專(zhuān)注于搜索污染物,搜索污染物的來(lái)源,并且測量去除/清除污染物的效力。
依據污染物的性質(zhì)和分析目的,那種技術(shù)最為合適?

  • 預計污染物是有機物還是無(wú)機物?
  • 預計是存在大量污染物或者只有一小部分?
  • 預計污染物是廣泛分布、局部化或者是微粒結構?
  • 預計是在表面、在特定層、在界面或者是在基材?
  • 痕量程度重要嗎?或者它的存在要在一定程度以上才重要呢?

技術(shù)選擇
根據不同類(lèi)型的污染物,以下列出的都是潛在的重要技術(shù)。在某些情況下,需要將幾種技術(shù)結合起來(lái)使用,尤其是當我們對污染物知之甚少,或者如果它是多種成分的混合物。

  • 微粒
  1. 掃描式電子顯微鏡(SEM)
  2. 能量散射X-射線(xiàn)光譜(EDS)(%, > 0.5μm)
  3. Auger電子光譜(AES)(%, > 200?)
  4. 傅立葉變換紅外光譜(FTIR)(>15μm,有機)
  5. 飛行式二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)
  • 殘留物
  1. Auger電子光譜(AES)(%,>200?)
  2. FTIR(%,小面積)
  3. X-射線(xiàn)光電子光譜(XPS)
  4. 飛行式二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)
  • 污點(diǎn),瑕疵
  1. o XPS(at%,化學(xué))
  2. o Auger(%,小面積)
  3. o TOF-SIMS(ppm,有機)
  • 薄霧
  1. 掃描式電子光譜(SEM)(成像)
  2. 原子力顯微鏡(AFM)(成像)
  3. TOF-SIMS
  4. XPS
  1. SEM-EDS(%,>0.5μm)
  2. XPS(%,僅適用元素分析)
  3. Auger(%,小面積)
  4. SIMS(ppm, >10μm)
  • 塊材
  1. XRF(ppm, >3μm)
  2. ICP-OES
  3. ICP-MS
  4. GDMS


清潔度
根據要分析的表面與材料特點(diǎn),使用不同的測量方法去評估表面清潔度。另外,還可能會(huì )涉及到對使用不同的處理方式,或是暴露在不同環(huán)境的樣品比較。使用這種方法通??梢酝伙@出檢測樣品和控制樣品或標準品之間的區別。例如,非常靈敏的測量方法可以發(fā)現到因為沒(méi)有進(jìn)行適當地沖洗而殘留的清潔化學(xué)品,靈敏度較低的測定方法則可能會(huì )測不到殘留物。

評估清潔度一般需要對于污染物的可能來(lái)源有一定程度上的理解:

  • 是否有感興趣的元素或者分子污染物?(嫌疑犯?)
  • 材料存在或不存在的確認?
  • 在意的元素是否必須要低于特定濃度?
  • 測定非常干凈的表面可能會(huì )要求偵測極限為ppm范圍的分析技術(shù),例如全反射X-射線(xiàn)熒光分析(TXRF),只探測元素成分,或者飛行式二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS),針對元素和分子污染物。通過(guò)表面的許多微粒來(lái)測定清潔度,對于表面成像和微粒計算來(lái)說(shuō),掃描式電子顯微鏡(SEM)是個(gè)不錯的選擇。

主要分析技術(shù)

  • 掃描式電子顯微鏡(SEM)
  • 飛行式二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)
  • 全反射X-射線(xiàn)熒光光譜(TXRF)
  • X-射線(xiàn)光電子光譜(XPS)和化學(xué)分析電子光譜(ESCA)

其他分析技術(shù)

  • Auger電子光譜 (Auger)
  • 傅立葉變換紅外光譜 (FTIR)
  • 氣相色譜質(zhì)譜(GC-MS)
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